集成电路常用器件&华为申请“集成电路器件及其制备方法”专利_隔离

企查查APP显示,华为技术有限公司于12月11日公开“集成电路器件及其制备方法”专利信息,专利公开号为CN112074930A,摘要含本申请提供一种集成电路器件及其制备方法,涉及半导体技术领域,通过简

原标题:华为申请“集成电路器件及其制备方法”专利

企查查APP显示,华为技术有限公司于12月11日公开“集成电路器件及其制备方法”专利信息,专利公开号为CN112074930A,摘要含本申请提供一种集成电路器件及其制备方法,涉及半导体技术领域,通过简单的工艺便可形成对相邻两个晶体管漏电流通路抑制的隔离段。

编辑 华新 校对 元旦

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